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產(chǎn)品型號(hào): FM-CVD
所屬分類:探頭
產(chǎn)品時(shí)間:2024-07-20
簡(jiǎn)要描述:石英管式微波等離子體裝FM-CVD詳細(xì)介紹 (一)主要配置:1、微波頻率2.45GHz;足額功率0~500W(基本型)或0~1000W(升級(jí)型)連續(xù)可調(diào),陽(yáng)*壓、陽(yáng)極電流足額顯示;2、Φ50mm(基本型)或Φ90mm(升級(jí)型)石英管真空室,有一個(gè)觀察窗和一個(gè)診斷窗;3、石英管采用制冷循環(huán)水冷卻,保證裝置安全運(yùn)行。4、配有真
石英管式微波等離子體裝FM-CVD
的詳細(xì)介紹
(一)主要配置:
1、微波頻率2.45GHz;足額功率0~500W(基本型)或0~1000W(升級(jí)型)連續(xù)可調(diào),陽(yáng)*壓、陽(yáng)極電流足額顯示;
2、Φ50mm(基本型)或Φ90mm(升級(jí)型)石英管真空室,有一個(gè)觀察窗和一個(gè)診斷窗;
3、石英管采用制冷循環(huán)水冷卻,保證裝置安全運(yùn)行。
4、配有真空測(cè)量及控制閥門(mén)系統(tǒng);3路工作氣體流量控制;
(二)典型實(shí)驗(yàn):
1、等離子體化學(xué)氣相沉積。A(氣)+B(氣)→C(固)+D(氣)。
反應(yīng)氣體A、B被激發(fā)為等離子狀態(tài),其活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)生成所需要的固態(tài)物沉積在基片上,可廣泛用于薄膜或納米材料的合成。如金剛石薄膜、碳納米材料等。
2、等離子體表面刻蝕。A(氣)+B(固)→C(氣)。反應(yīng)氣體A被激發(fā)為等離子體狀態(tài)與固體B表面原子發(fā)生反應(yīng)生成氣態(tài)物C,可用于集成電路的刻蝕實(shí)驗(yàn)。
3、等離子體催化反應(yīng)。等離子體中具有豐富的活性成分,如紫外和可見(jiàn)光子、電子、離子、自由基,高反應(yīng)性的中性成分如活性原子、受激原子態(tài),從而可以引發(fā)在常規(guī)化學(xué)中不能或很難實(shí)現(xiàn)的化學(xué)反應(yīng)。
4、等離子體表面改性。A(氣)+B(固)→C(固)。反應(yīng)氣體A被激發(fā)為等離子體狀態(tài),與固體B表面發(fā)生反應(yīng),生成新的化合物,從而達(dá)到改變B物質(zhì)表面性質(zhì)的目的。廣泛用于高分子材料、金屬材料、生物醫(yī)用材料的表面改性。
(三)產(chǎn)品特色:
1、 微波系統(tǒng)設(shè)計(jì)嚴(yán)謹(jǐn),加工精良,運(yùn)行時(shí)微波準(zhǔn)零泄漏,確保使用者人身安全;
2、 微波功率充足,等離子效應(yīng)強(qiáng)勁,作用效果良好;陽(yáng)極電壓電流足額顯示。
3、 樣品臺(tái)升降架精巧豪華,方便調(diào)諧和樣品取放;
4、 樣品臺(tái)可加熱或冷卻,有利于控制反應(yīng)過(guò)程。
5、制冷循環(huán)水系統(tǒng)踐行環(huán)保理念,避免用長(zhǎng)流水費(fèi)水?dāng)_民。
6、循環(huán)水機(jī)可聯(lián)機(jī)使用、可獨(dú)立使用,提高了投資效益;
7、缺水時(shí)啟動(dòng)高壓或正常工作時(shí)斷水,系統(tǒng)會(huì)斷電并報(bào)警;
8、真空泵排氣口接有油霧過(guò)濾器,保護(hù)環(huán)境;
9、電控系統(tǒng)功能完善、操作靈便、指示醒目;
10、整機(jī)造型典雅大氣。
(四)輔助設(shè)備與耗材(主要由客戶另購(gòu)):
超聲清洗機(jī)、1000×金相顯微鏡;硅片、金剛石微粉、氫氣、甲烷、甲 / 乙醇、玻璃基襯底的碳膜、模板、石英管 / 板等。
石英管式微波等離子體裝FM-CVD
(五)特殊配置(客戶提出要求,本廠設(shè)計(jì)制作,費(fèi)用雙方協(xié)商):
1、異型基片臺(tái)(樣品臺(tái))
2、上置疹斷探針(帶透明觀察窗)
3、可加熱可測(cè)溫的基片臺(tái)——可水冷可
出接線端子的基片臺(tái)支柱——寬行程
精巧豪華升降架——下法蘭(總成)
4、基片臺(tái)加熱及溫度測(cè)控儀
5、可水冷的基片臺(tái)(帶升降架總成)
6、光學(xué)鏡頭(用于聯(lián)接光譜儀、光度計(jì)等)
7、客戶提出需求的其它配置